Hãy nhập câu hỏi của bạn vào đây, nếu là tài khoản VIP, bạn sẽ được ưu tiên trả lời.
Cho các phát biểu sau
(1) Dãy HF, HCl, HBr, HI: độ bền tăng dần, tính axit và tính khử tăng dần.
(2) HF là axit yếu nhưng có tính chất đặc biệt ăn mòn thủy tinh.
(3) Phản ứng: NaX (tt) + H2SO4 đặc
NaHSO4 + Y(khí), Y gồm HCl, HBr, HI và HF.
(4) Các muối AgX đều là chất kết tủa (X là halogen).
(5) Không thể bảo quản axit HF trong chai, lo bằng thủy tinh.
(6) Trong nhóm halogen, theo chiều tăng dần điện tích hạt nhân: tính phi kim (tính oxy hóa) giảm dần còn tính khử tăng dần.
(7) Trong phòng thí nghiệm, có thể điều chế clo bằng cách cho HCl đặc tác dụng với các chất oxi hóa mạnh như MnO2, KMnO4, KClO3, K2Cr2O7,…
(8) Trong công nghiệp, điều chế clo bằng cách điện phân dung dịch natri clorua NaCl bão hòa (không có màng ngăn) .
Số phát biểu đúng là A. 2. B. 3. C. 4. D.5
D đúng.
Vì SiO2 + 4HF → SiF4 + 2H2O
Do đó HF được dùng để khắc chữ lên thủy tinh
Chọn đáp án B
1. Đúng.
2. Sai.HF là axit rất yếu.Ăn mòn thủy tinh là tính chất riêng có.
3. Sai.Tính khử và tính axit tăng dần
4. Sai điều chế bằng điện phân dung dịch NaCl không có màng ngăn.
5. Sai HClO là axit rất yếu
HF là axit yếu nhưng hòa ta được oxit axit SiO2, còn các axit mạnh như H2SO4 HCl thậm chí là nước cường thuỷ.... lại không hòa tan đươc.Ví dụ:So sánh 2 phản ứng sau:
4HF + SiO2 ----> SiF4 + 2H2O (1)
4HCl + SiO2 ---> SiCl4 + 2H2O (2)
Năng lượng của phản ứng (1) là -920kJ (thấp), nhưng của phản ứng (2) là +54kJ.
Do đó phản ứng (1) xảy ra. ( phản ứng xảy ra theo chiều tạo năng lượng thấp)
Nguyên nhân chính của sự khác nhau này là do năng lượng liên kết Si-F (540 kJ/mol) trong SiF4 lớn hơn nhiều so với năng lượng liên kết Si-Cl (360 kJ/mol) trong SiCl4.
Đáp án A
(II).Sai. Nguyên tắc điều chế Cl2 là OXH ion Cl-
(III). Sai.Điều chế oxi người ta điện phân H2O việc cho thêm (NaOH,H2SO4) vào chỉ để làm mồi đồng thời tăng khả năng dẫn điện.
(IV). Sai.Là hai dạng thù hình của nhau.
(V). Sai.HF không có tính khử mạnh.
a)
- F2 tác dụng với H2 ở nhiệt độ thấp, trong bóng tối
\(H_2+F_2\underrightarrow{-252^oC}2HF\)
- Cl2 tác dụng với H2 ở nhiệt độ thường, có ánh sáng
\(H_2+Cl_2\underrightarrow{as}2HCl\)
- Br2 tác dụng với H2 ở nhiệt độ cao
\(Br_2+H_2\underrightarrow{t^o}2HBr\)
- I2 tác dụng với H2 ở nhiệt độ cao, có xúc tác
\(I_2+H_2\xrightarrow[Pt]{350-500^oC}2HI\)
=> Tính oxh giảm dần từ F2 đến I2
b)
- HCl có tính khử: \(MnO_2+4HCl\rightarrow MnCl_2+Cl_2+2H_2O\)
- HCl có tính oxh: \(Fe+2HCl\rightarrow FeCl_2+H_2\)
c)
- \(SiO_2+4HF\rightarrow SiF_4+2H_2O\)
Đáp án C
Axit có đặc tính ăn mòn các đồ vật bằng thủy tinh là HF:
SiO 2 + 4 HF → SiF 4 + 2 H 2 O